1、本文主要论述基板员偏压与铜基体磁控溅射离子镀铝膜的关系。2、本发明是一种应用于多弧离子镀、渗设备中的柱状阴极电弧源。包括管状阴极靶材、管内安装的平行于轴线的数根条形磁钢、磁钢整体做旋转运动。3、